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中微公司Primo Menova?12寸金屬刻蝕設(shè)備全球首臺(tái)機(jī)付運(yùn)
來(lái)源:證券時(shí)報(bào)網(wǎng)作者:王一鳴2025-06-24 18:07

近日,中微公司(688012)宣布其刻蝕設(shè)備系列迎來(lái)又一里程碑:Primo Menova?12寸金屬刻蝕設(shè)備全球首臺(tái)機(jī)順利付運(yùn)國(guó)內(nèi)一家重要集成電路研發(fā)設(shè)計(jì)及制造服務(wù)商。

中微公司資深副總裁叢海表示:“中微公司開發(fā)的一系列刻蝕設(shè)備在性能、穩(wěn)定性等方面滿足了客戶的高標(biāo)準(zhǔn)要求,并可覆蓋國(guó)內(nèi)大多數(shù)的刻蝕應(yīng)用需求。中微公司持續(xù)踐行‘五個(gè)十大’的企業(yè)文化,將產(chǎn)品開發(fā)的十大原則始終貫穿于產(chǎn)品開發(fā)、設(shè)計(jì)和制造的全過(guò)程,秉持為達(dá)到設(shè)備高性能和客戶嚴(yán)格要求而開發(fā)的理念,堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新、設(shè)備差異化和知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)。隨著新應(yīng)用的進(jìn)一步拓展,我們將繼續(xù)推進(jìn)與客戶的密切合作交流,通過(guò)技術(shù)領(lǐng)域的持續(xù)創(chuàng)新,不斷為客戶提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品和解決方案,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)步發(fā)展與深度共贏?!?/p>

據(jù)介紹,中微公司的12英寸ICP單腔刻蝕設(shè)備Primo Menova?專注于金屬刻蝕,尤其擅長(zhǎng)于金屬Al線、Al塊的刻蝕,可廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、存儲(chǔ)器件和先進(jìn)邏輯芯片的制造,是晶圓廠金屬化工藝主要設(shè)備之一。Primo Menova?基于中微量產(chǎn)的ICP刻蝕產(chǎn)品Primo Nanova?研發(fā)制造,秉承了優(yōu)異的刻蝕均一性控制,可達(dá)到高速率、高選擇比及低底層介質(zhì)損傷等刻蝕性能。Primo Menova?搭配高效率腔體清潔工藝,可減少腔室污染,延長(zhǎng)腔體持續(xù)運(yùn)行時(shí)間。并且,Primo Menova?系統(tǒng)還集成了配備高溫水蒸氣的除膠腔室(strip chamber),高效去除金屬刻蝕后晶圓表面殘留光刻膠及副產(chǎn)物。Primo Menova?和除膠腔體可根據(jù)客戶工藝需求靈活搭配,最大程度滿足客戶高生產(chǎn)效率的要求,確保機(jī)臺(tái)在高負(fù)荷生產(chǎn)中的穩(wěn)定性與良率。

定期報(bào)告顯示,中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國(guó)際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進(jìn)的集成電路加工制造生產(chǎn)線及先進(jìn)存儲(chǔ)、先進(jìn)封裝生產(chǎn)線。公司的CCP電容性高能等離子體刻蝕機(jī)和ICP電感性低能等離子體刻蝕機(jī)可覆蓋國(guó)內(nèi)95%以上的刻蝕應(yīng)用需求,在性能優(yōu)秀、穩(wěn)定性高等方面滿足了客戶先進(jìn)制程中各類嚴(yán)苛要求。截至2024年年底,公司累計(jì)已有超過(guò)6000臺(tái)等離子體刻蝕和化學(xué)薄膜設(shè)備的反應(yīng)臺(tái),在國(guó)內(nèi)外137條生產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)和大規(guī)模重復(fù)性銷售。

研發(fā)方面,根據(jù)市場(chǎng)及客戶需求,公司顯著加大研發(fā)力度,目前在研項(xiàng)目涵蓋六大類、超過(guò)二十款新設(shè)備的開發(fā)。2024年公司研發(fā)總投入達(dá)到24.5億元,比2023年增加了94.3%,占營(yíng)業(yè)收入比例約為27%,遠(yuǎn)高于科創(chuàng)板上市公司平均研發(fā)投入占收入比例的10%到15%。

另外,公司研發(fā)新產(chǎn)品的速度顯著加快。在5月27日的2025年第一季度業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)上,中微公司董事長(zhǎng)、總經(jīng)理尹志堯談及當(dāng)前新產(chǎn)品研發(fā)效率時(shí)闡述:“經(jīng)過(guò)20多年的努力,公司已組建了超過(guò)千人的研發(fā)團(tuán)隊(duì),并且十分全面。十年前,我們一般需要三到五年來(lái)開發(fā)一個(gè)新產(chǎn)品,然后再花兩年時(shí)間進(jìn)入市場(chǎng)。比如,MOCVD是從2010年開始研發(fā),2017年才進(jìn)入市場(chǎng)。從最新產(chǎn)品信息來(lái)看,現(xiàn)在我們只需要大約18個(gè)月,最多兩年就能完成新品研發(fā),半年到一年就可以量產(chǎn)并進(jìn)入市場(chǎng)。隨著速度加快,公司研發(fā)產(chǎn)品的數(shù)量亦在增加?!?/p>

責(zé)任編輯: 張一帆
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